硅鋼片1949年美國制成厚度小于0.1mm的冷軋（110）[001]取向薄硅鋼帶，用于電子工業(yè)。1957年聯(lián)邦德國制成了（100）[001]立方取向硅鋼片，其縱橫向磁性都高，但因工藝復雜，至今未正式生產(chǎn)。圖2是（110）[001]和（100）[001]取向硅鋼片中晶粒排列示意圖。含硅6.5%的Si-Fe合金的磁致伸縮約為零，磁導率高、鐵損低、制成的變壓器無噪聲但因加工困難，未得到廣泛應用。70年代采用液態(tài)快冷技術(shù)制成6.5Si-Fe微晶薄帶，研制了更薄的取向硅鋼片和（100）面織構(gòu)（晶間無取向）的硅鋼片等新品種硅鋼片，英文名稱是silicon lamination， 它是一種含碳極低的硅鐵軟磁合金，一般含硅量為0.5～4.5%。加入硅可提高鐵的電阻率和最大磁導率，降低矯頑力、鐵芯損耗（鐵損）和磁時效。硅鋼片的生產(chǎn)由于工藝復雜、工藝窗口窄，生產(chǎn)難度大，被譽為鋼鐵產(chǎn)品中的工藝品，特別是取向硅鋼片。見圖用途主要用來制作各種變壓器、電動機和發(fā)電機的鐵芯。世界硅鋼片產(chǎn)量約占鋼材總量的1%（見精密合金）。冷軋無取向硅鋼片是將鋼坯或連鑄坯熱軋成厚度約2.3mm帶卷。制造低硅產(chǎn)品時，熱軋帶卷酸洗后一次冷軋到 0.5mm厚。制造高硅產(chǎn)品時，熱軋帶酸洗后（或先經(jīng)800～850℃常化后再酸洗），冷軋到0.55或0.37mm厚，在氫氮混合氣氛連續(xù)爐中850℃退火，再經(jīng)6～10%小壓下率冷軋到0.50或0.35mm厚。這個小壓下率的冷軋可使退火時晶粒長大，鐵損降低。這兩種冷軋板都在20%氫氮混合氣氛下連續(xù)爐中850℃最終退火，然后涂磷酸鹽加鉻酸鹽的絕緣膜。晶粒取向硅鋼一般都含Si3%，要求鋼中氧化物夾雜含量低，并必須含有C0.03～0.05%和抑制劑（第二相彌散質(zhì)點或晶界偏析元素）。抑制劑的作用是阻止初次再結(jié)晶晶粒長大和促進二次再結(jié)晶的發(fā)展，從而獲得高的（110）[001]取向。抑制劑本身對磁性有害，所以在完成抑制作用后，須經(jīng)高溫凈化退火。采用第二相抑制劑時，板坯加熱溫度必須提高到使原來粗大第二相質(zhì)點固溶，隨后熱軋或常化時再以細小質(zhì)點析出，以便增強抑制作用。冷軋成品厚度為0.28、0.30或0.35mm，工藝要點見表3。冷軋取向薄硅鋼帶是將0.30或0.35mm厚的取向硅鋼帶，再經(jīng)酸洗、冷軋和退火制成\硅鋼主要用氧氣轉(zhuǎn)爐冶煉（也可用電弧爐冶煉），配合鋼水真空處理和AOD技術(shù)（見爐外精煉，采用模鑄或連鑄法。根據(jù)不同的用途，冶煉時改變硅（0.5～4.5%）和鋁（0.2～0.5%）含量以滿足不同磁性的要求。高牌號硅鋼片的硅和鋁量相應提高。碳、硫和夾雜物盡量減少。

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硅鋼片硅鋼主要用氧氣轉(zhuǎn)爐冶煉（也可用電弧爐冶煉），配合鋼水真空處理和AOD技術(shù)（見爐外精煉，采用模鑄或連鑄法。根據(jù)不同的用途，冶煉時改變硅（0.5～4.5%）和鋁（0.2～0.5%）含量以滿足不同磁性的要求。高牌號硅鋼片的硅和鋁量相應提高。碳、硫和夾雜物盡量減少。硅鋼片一般隨硅含量提高，鐵損、沖片性和磁感降低，硬度增高（圖3）。工作頻率愈高，渦流損耗愈大，選用的硅鋼片應當愈薄。

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